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真空电镀厂介绍真空镀膜的均匀性

真空电镀厂介绍，苏州真空电镀电话，真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。 并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义，提供苏州真空电镀，下面分别说一下：

均匀性主要体现在3方面：

一.真空电镀厂阐述，厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100a），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10a甚至1a的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。

二.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，sitio3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是sitio3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

三.真空电镀厂概述，晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的---问题。

　　电镀工艺管理是电镀生产中的一个重要的环节，它的确定是电镀---经过数千万次的反复试验研究得到的，因此，电镀工艺具有很强的科学性。工艺的确定不仅要考虑到镀层沉积速率、阴阳极的电流效率、金属离子溶解和沉积的平衡，还要考虑到ｐｈ值的稳定性，温度和电流密度范围的宽广性、以及出---率、整平性能、光亮范围等多方面的综合而制定的。因此，我们必须要十分重视工艺中规定的各种技术参数，只有这样才能---镀出好的镀层。